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美國對我國半導體行業的限制，又在變本加厲了。

6月30日，荷蘭政府發布《先進半導體制造設備法規》，加碼了對我國光刻機出口的管制。

荷蘭光刻機巨頭ASML也發布公告，稱最先進的浸沒式DUV光刻機出口需要獲得荷蘭政府認可。

這里可能會有人疑問：

不是早在2年多以前，荷蘭光刻機就被禁止向我國出售了嗎？怎么又來了一輪禁售？

這里需要指出的是，當初荷蘭受美國逼迫對中國禁售光刻機，指的是能生產14nm以下最先進制程芯片的EUV光刻機。

但如今，適用于14nm以上的中低端芯片生產，部分先進的浸潤式DUV光刻機也遭受了限制。

換句話說，只限制荷蘭對華出口高端EUV光刻機還不算完，美國還要把低端光刻機領域也徹底堵死，全方位遏制我國半導體產業發展。

面對美國對我國半導體產業發展的圍追堵截，我國芯片行業想要迎頭趕上，乃至于實現彎道超車，必須要堅持自主研發，走出一條新路。

荷蘭被迫限制對華出口光刻機

對荷蘭的ASML公司而言，從自身的利益出發，其實完全沒有限制對華出口光刻機的理由。

2019年，中國對于光刻機的需求已經占到了全球市場的將近40%。

再加上這幾年國內對光刻機的需求繼續增長，有專業人士預計，到今年年底我國光刻機需求占全球市場的占比將達到50%。

對于ASML這樣一家幾乎已經形成壟斷的公司來說，顯然不可能愿意放棄占據自身業務量一半的龐大市場。

實際上，2022年10月美國發布對華最強的半導體技術管制，荷蘭最初選擇了拒不跟隨。

荷蘭外貿大臣施賴納馬赫爾表示：

“荷蘭不會一比一照搬美國（對華出口）的措施。”

ASML的首席執行官彼得·溫寧克更是公開質疑美國的雙標做法：
“美國的芯片制造商能夠對中國銷售最先進的芯片，可ASML卻只能對中國銷售較舊的芯片制造設備，這似乎有些矛盾。”

但可惜的是，即便ASML是全球唯一的光刻機巨頭，但生產光刻機的關鍵零部件本土化率并沒有那么高，以EUV光刻機為例，只有大約45%的零部件在荷蘭本土生產，其余55%都要依靠美國及其盟友日德等國的進口。

因此，如果荷蘭不答應限制對華光刻機的出口，就會被美國“卡脖子”，所以不同意也沒辦法。

盡管ASML能夠生產全球最頂尖的光刻機設備，中國又有全球占比最大的市場，但由于美國從中作梗，二者無法達成交易，實現雙贏。

中國光刻機產業發展如何？

首先需要承認的一點是，我國光刻機產業發展距離全球頂尖，乃至于實現自給自足，還有很大一段距離。

比如光刻機制造的第一個難點，也就是機器的光源問題。

現在全球只有美國的Cymer掌握著成熟的制造技術，就連ASML也需要向其采購預訂。

目前我國首臺EUV光源工程樣機已經正式落地，但盡管已經研發成功，也只是剛剛為量產打下基礎，距離此項技術真正成熟，真正完成配套光刻機的生產，還有一定的差距。

再以光刻膠為例，光刻膠是光刻機生產、芯片生產的核心原材料之一，主要被用作抗腐蝕涂層材料。

目前在高端光刻膠領域，日本遙遙領先，足足占據全球市場的75%，掌握了高端光刻膠市場的絕對話語權。

而我國目前光刻膠發展還處于起步階段，就拿ArF光刻膠來說，這種光刻膠被用于制作14nm到130nm的光刻機、芯片上，我國ArF光刻膠的國產自給率只有1%，還需要向日本專門進口。

因此，雖然我國半導體產業發展迅猛，在光刻機制造研發領域一直在發力，但這種真正的高精尖科技領域，想要實現突圍難度相當之大。

尤其美國為限制我國半導體產業發展無所不用其極，除了技術、關鍵設備之外，甚至在材料領域也是圍追堵截，進一步加大了我國光刻機研發制造的難度。

光刻機產業距離突破，未來還有比較長的一段路要走。

中國芯片自主要走出新路

其實與我國在新能源汽車領域的發展路徑類似，國產光刻機想要真正突破西方限制，更重要的是針對未來方向的布局，實現彎道超車。

以汽車產業為例，汽車制造業被譽為工業上的明珠，是可以作為國家經濟支柱的產業之一。

但傳統燃油車時代，由于我國工業起步落后，失去了先發優勢，導致外國汽車對于國產車形成了碾壓局面。

消費者寧可花費翻倍乃至于幾倍的溢價去購買合資車，也不愿意購買相對低端的國產車，國產車企也因為技術落后、利潤微薄，只能勉強維持經營。

不過，隨著國家加大對于新能源汽車產業的扶持力度，國產新能源汽車產業蓬勃發展，一眾國產車企迎來了新生。

去年，我國新能源汽車產銷已經連續8年位列全球第一，動力電池裝機量前10企業中，我國占據6席，真正實現了汽車工業上的彎道超車。

而如今光刻機產業面臨著類似的局面，我國不僅缺乏先發優勢，而且面臨著西方國家的層層限制。

且生產一臺高端EUV光刻機，需要超過10萬個零部件，全球5000家以上企業合作，其中的技術研發難度可想而知。

短時間內想要在國內建設一條完備的光刻機產業鏈，絕非易事。

因此，如今除了繼續在國產光刻機研發制造上實現突破之外，也要基于未來方向進行布局，圍繞下一代晶體管的材料、器件與工藝方向進行持續的研發投入，從而形成反制手段。

想要繞過光刻機的路徑，就必須不斷地進行嘗試，比如我國的超分辨率光刻機、量子芯片、光子芯片等生產線，都在規劃過程中，國內首條多材料光子芯片產線也即將于今年建成。

總而言之，面對西方國家對我國半導體產業的封鎖，除了腳踏實地，繼續堅持在光刻機研發制造上的投入之外，也要“仰望星空”，從另一個方向去試探新的出路，針對未來進行布局。

寫在最后：

從另一種角度來看，美國限制我國芯片產業研發，也并不完全是一件壞事。

這相當于直接幫我們斷掉后路，逼著我們一門心思搞自主研發，盡快實現光刻機產業的突破。

當初ASML總裁曾口出狂言，稱就算中國對著圖紙也造不出光刻機。

如今中國不斷在光刻機產業發力，且已經取得了一定的成績，事實會證明，中國并不懼怕各種層層加碼的限制，光刻機國產化只是時間早晚的問題。

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